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          紫外光刻儀是一種用于材料科學領域的工藝試驗儀器

          發布時間:2022-05-06      點擊次數:604
            紫外光刻儀是一種用于材料科學領域的工藝試驗儀器,用于將涂有光刻膠的晶片與掩膜的對準,然后曝光,將掩膜的圖形轉移到晶片的光刻膠上,用于納米器件的微加工。
            紫外光刻主要功能:
            采用紫外光源,實現光刻膠的曝光,將光刻版上的圖形轉移到光刻膠上,在光刻膠上制作出亞微米(>0.8um)圖形結構。紫外光刻系統是目前實驗室光刻技術中最為常用和重要的光刻設備。
            紫外(UV)光刻和直接書寫的方法,其中曝光模式和劑量都是由互補金屬氧化物半導體(CMOS)控制的微像素化發光二極管陣列決定的。來自演示器8x8氮化鎵微像素LED的370nm紫外光使用兩個背對背顯微鏡物鏡投射到光刻膠覆蓋的基底上,允許控制去除。在目前的設置中,該系統能夠在直徑為~8?m的圓形點中為每個成像像素提供高達8.8W/cm2。我們展示了用正光刻膠和負光刻膠書寫的示例結構。
            光刻技術是微圖案化的方法, 按照最近報道的方法設計了CMOS控制裝置,使交替像素可操作,從而得到了一個發光的8x8陣列[圖]1(a)]。這是由于凹凸鍵合過程,目前限制了像素到像素間距為~200?m。
            紫外光刻機的主要核心部件主要分為兩個部分:分別是對準系統和紫外光源。
            目前對準系統主要有兩大難題,精密的機械工藝和對準顯微鏡系統。精密的機械工藝目前只有美國,而對準顯微鏡系統其實就是鏡片,在這方面我國一直處于落后的狀態。
            關于紫外光源,光刻機對光源的要求十分高,一是要有適當的波長,二是光要有足夠的能量,三是光能量且必須要均勻的分布在曝光區。
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